產業專利分析報告-第100冊高階芯片晶圓製造技術 9787513094238 國家知識產權局學術委員會組織編寫

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物品所在地:中國大陸
原出版社:知識產權
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書名:產業專利分析報告-第100冊高階芯片晶圓製造技術
ISBN:9787513094238
出版社:知識產權
著編譯者:國家知識產權局學術委員會組織編寫
頁數:260
所在地:中國大陸 *此為代購商品
書號:1668840
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【台灣高等教育出版社簡體書】 產業專利分析報告-第100冊高階芯片晶圓製造技術 787513094238 國家知識產權局學術委員會組織編寫
內容簡介
本書是相關行業的專利分析報告。報告從該行業的專利(國內、國外)申請、授權、申請人的已有專利狀態、其他先進國家的專利狀況、同領域領先企業的專利壁壘等方面入手,充分結合相關數據,展開分析,並得出分析結果。本書是了解該行業技術發展現狀並預測未來走向、幫助企業做好專利預警的必備工具書。

作者簡介
國家知識產權局學術委員會為國家知識產權局內設的專利審查業務學術研究機構,本年度分析報告的承辦方為優選的各地專利代理事務所、律師事務所以及相關行業協會。每種報告的課題組約由20人組成,分別進行數據收集、整理、分析、製圖、審核、統稿。

目錄

目錄
第1章研究概況
1 1研究背景
1 1 1芯片製造技術發展現狀
1 1 2研究意義
1 2研究內容
1 2 1研究的目的
1 2 2研究的重點
1 2 3研究的方法
1 3相關解釋和約定
1 3 1專利數據解釋
1 3 2相關術語約定
1 3 3相關申請人約定
第2章高端芯片晶圓製造技術專利總體分析
2 1專利申請總體情況分析
2 1 1專利申請總體態勢分析
2 1 2全球申請人技術流向分析
2 2光刻工藝專利申請分析
2 2 1申請態勢分析
2 2 2國家或地區分析
2 2 3主要申請人分析
2 2 4技術分佈分析
2 2 5主要申請人技術分析
2 3小結
第3章光刻膠膠體關鍵技術專利分析
3 1浸沒式ArF光刻膠
3 1 1簡介
3 1 2專利狀況分析
3 1 3技術發展路線分析
3 1 4重要申請人分析
3 1 5小結
3 2EUV光刻膠
3 2 1簡介
3 2 2專利狀況分析
3 2 3技術發展路線分析
3 2 4重要申請人分析
3 2 5小結
3 3技術迭代中的企業合作與競爭
3 3 1浸沒式ArF光刻膠技術申請人與發明人合作關係
3 3 2EUV光刻膠技術申請人與發明人合作關係
3 3 3國家布局中的合作模式分析
3 4基於機器學習的核心專利識別
3 4 1集成學習
3 4 2專利分析指標及模型訓練集的構建
3 4 3基於集成學習的模型構建及訓練
3 4 4EUV核心專利分析及驗證
3 4 5小結
第4章掩模版關鍵技術專利分析
4 1石英玻璃基板
4 1 1簡介
4 1 2專利狀況分析
4 1 3技術發展路線分析
4 1 4全球重點申請人專利分析
4 1 5中國重點企業分析
4 1 6小結
4 2缺陷檢測
4 2 1簡介
4 2 2專利狀況分析
4 2 3技術發展路線分析
4 2 4中國專利分析
4 2 5重點申請人專利分析
4 2 6小結
4 3缺陷修復
4 3 1簡介
4 3 2專利狀況分析
4 3 3技術發展路線分析
4 3 4重點申請人分析
4 3 5小結
第5章浸沒式曝光關鍵技術專利分析
5 1簡介
5 2專利態勢分析
5 2 1全球專利申請態勢分析
5 2 2全球專利技術主要來源地分佈分析
5 2 3全球主要申請人排名分析
5 2 4全球主要申請人歷年專利申請量分析
5 2 5技術目標地分佈
5 2 6中國專利申請態勢分析
5 3技術路線
5 3 1流場穩定性控制
5 3 2減少氣泡
5 3 3減少污染
5 3 4溫度控制
5 4重點企業技術介紹
5 4 1ASML
5 4 2尼康
5 4 3台積電
5 4 4浙江啟爾
5 4 5國內其他申請人
5 5小結
第6章主要結論與建議
6 1研究結論
6 1 1專利申請整體態勢結論
6 1 2技術分支結論
6 2發展建議
6 2 1加強政策引領,助力原創性、引領性科技攻關
6 2 2支持全面創新
6 2 3積极參与全球科技治理
6 2 4加強知識產權保護
附錄申請人名稱約定表
圖索引
表索引

前言/序言
2023年是全面貫徹落實黨的二十大精神開局之年。國家知識產權局學術委員會堅持以習近平新時代中國特色社會主義思想為指導,深入學習貫徹黨的二十大精神,充分發揮知識產權的賦能增效作用,對標新質生產力發展需求,聚焦重點產業鏈開展專利情報分析,通過分析專利大數據、共享最新分析成果、推廣專利分析方法,加強科技創新的專利信息支撐,為培育發展新質生產力貢獻知識產權力量。
這一年在廣泛調研產業需求基礎上,重點聚焦新一代信息技術、數字經濟、清潔能源、新材料、生物醫藥、高端裝備等領域,確定13項研究課題,組織20餘家單位近200名研究人員開展研究,邀請近百名行業和技術專家介入指導,歷時半年高質量完成所有研究任務,形成一批突出分析方法、彰顯行業特色、體現情報價值的研究成果。遵照示範引領原則,選取其中7項成果繼續以《產業專利分析報告》(第94∼100冊)系列叢書的形式正式出版,技術領域主要涉及生成式人工智能(AIGC)、晶圓製造、固態電池、氫儲運、可控核聚變、靶向蛋白降解、智能電網傳感器等。
《產業專利分析報告》自2011年首次出版以來,歷經14年,終於迎來了第100冊。14年的堅守與磨礪,見證了《產業專利分析報告》的成長與蛻變。從出版之初,我們始終堅持「源於產業、依靠產業、推動產業」,認真踐行「普及方法、培育市場、服務創新」,努力走在專利分析方法探索、創新、融合、發展的前沿,積極發揮示範引領作用。經過多年積累和持續互動,不僅產出了一批高質量的研究成果,而且培養了一批專業的研究隊伍。我們欣喜地看到各行業從業人員已經完成了從最開始的認識專利分析、重視情報利用,到探索分析方法、嘗試實踐應用,再到熟練掌握工具、服務科技創新的蛻變。這不僅實現了項目設立時的初心使命,而且標志著各行業專利分析運用水平邁向了一個新台階。
《產業專利分析報告》系列叢書的順利出版離不開社會各界一如既往的關心和支持,凝聚著業界的汗水和智慧。希望系列叢書能夠繼續為服務產業專利布局、助力關鍵核心技術攻關、促進科技成果轉化應用等方面提供有益的信息支撐和情報參考!
《產業專利分析報告》叢書編委會
2024年6月
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