微納製造與半導體器件 周聖軍 9787111759225 【台灣高等教育出版社】

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物品所在地:中國大陸
原出版社:機械工業
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書名:微納製造與半導體器件
ISBN:9787111759225
出版社:機械工業
著編譯者:周聖軍
頁數:290
所在地:中國大陸 *此為代購商品
書號:1675017
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內容簡介

本書基於編者在微納製造領域的實踐經驗與研究成果,並結合近年來國際上的最新進展,綜合介紹了微納製造技術與半導體器件工藝。全書分為3篇,共12章,包括半導體基本原理(半導體材料、能帶和PN結)、微納製造工藝(摻雜、外延生長技術、光刻工藝、納米壓印光刻技術、刻蝕、沉積技術)、半導體器件(器件測試分析與表徵技術、Ⅲ族氮化物發光二極體、SiC壓阻式壓力感測器、器件模擬軟體)等內容,對微納製造和器件加工中涉及的技術與工藝進行了詳細的介紹。 本書內容豐富,注重理論與實踐相結合,適合作為機械、微電子、光學等相關專業的教材,供本科生和研究生學習使用,也可作為半導體行業研發人員的參考書。

目錄

前言
第一篇 半導體基本原理
第1章 半導體材料
1 1 半導體材料晶體結構
1 2 單晶硅
1 3 Ⅲ族氮化物
1 4 碳化硅
1 5 晶體缺陷
習題
參考文獻
第2章 能帶和PN結
2 1 能帶
2 2 半導體PN結
習題
參考文獻
第二篇 微納製造工藝
第3章 摻雜
3 1 擴散
3 2 離子注入
習題
參考文獻
第4章 外延生長技術
4 1 晶體外延生長
4 2 氫化物氣相外延(HVPE)
4 3 金屬有機化合物化學氣相沉積(MOCVD)
4 4 分子束外延(MBE)
習題
參考文獻
第5章 光刻工藝
5 1 光刻原理
5 2 光學曝光技術
5 3 光刻工藝流程
5 4 光刻膠特性
5 5 光刻掩模版製作
5 6 極紫外光刻技術
5 7 其他光刻技術
習題
參考文獻
第6章 納米壓印光刻技術
6 1 納米壓印光刻技術簡介
6 2 納米壓印模具
6 3 模具表面處理
6 4 壓印光刻膠
6 5 典型納米壓印光刻工藝
習題
參考文獻
第7章 刻蝕
7 1 刻蝕原理
7 2 濕法刻蝕
7 3 干法刻蝕
7 4 刻蝕技術應用
習題
參考文獻
第8章 沉積技術
8 1 物理氣相沉積技術
8 2 化學氣相沉積技術
習題
參考文獻
第三篇 半導體器件
第9章 器件測試分析與表徵技術
9 1 掃描電子顯微鏡
9 2 透射電子顯微鏡
9 3 原子力顯微鏡
9 4 X射線光電子能譜
9 5 X射線衍射
9 6 拉曼光譜
9 7 俄歇電子能譜儀
9 8 原子探針層析技術
9 9 二次離子質譜分析
習題
參考文獻
第10章 Ⅲ族氮化物發光二極體
10 1 發光二極體介紹
10 2 LED外延結構及生長工藝
10 3 LED晶元結構及製造工藝
習題
參考文獻
第11章 SiC壓阻式壓力感測器
11 1 SiC壓阻式壓力感測器工作原理
11 2 SiC壓阻式壓力感測器設計與製造
習題
參考文獻
第12章 器件模擬軟體
12 1 SimuLED
12 2 Silvaco TCAD
12 3 COMSOL Multiphysics
12 4 LightTools
12 5 FDTD Solutions
習題
參考文獻

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