| *完成訂單後正常情形下約兩周可抵台。 *本賣場提供之資訊僅供參考,以到貨標的為正確資訊。 印行年月:202409*若逾兩年請先於私訊洽詢存貨情況,謝謝。 台灣(台北市)在地出版社,每筆交易均開具統一發票,祝您中獎最高1000萬元。 書名:微納製造與半導體器件 ISBN:9787111759225 出版社:機械工業 著編譯者:周聖軍 頁數:290 所在地:中國大陸 *此為代購商品 書號:1675017 可大量預訂,請先連絡。 內容簡介 本書基於編者在微納製造領域的實踐經驗與研究成果,並結合近年來國際上的最新進展,綜合介紹了微納製造技術與半導體器件工藝。全書分為3篇,共12章,包括半導體基本原理(半導體材料、能帶和PN結)、微納製造工藝(摻雜、外延生長技術、光刻工藝、納米壓印光刻技術、刻蝕、沉積技術)、半導體器件(器件測試分析與表徵技術、Ⅲ族氮化物發光二極體、SiC壓阻式壓力感測器、器件模擬軟體)等內容,對微納製造和器件加工中涉及的技術與工藝進行了詳細的介紹。 本書內容豐富,注重理論與實踐相結合,適合作為機械、微電子、光學等相關專業的教材,供本科生和研究生學習使用,也可作為半導體行業研發人員的參考書。目錄 前言第一篇 半導體基本原理 第1章 半導體材料 1 1 半導體材料晶體結構 1 2 單晶硅 1 3 Ⅲ族氮化物 1 4 碳化硅 1 5 晶體缺陷 習題 參考文獻 第2章 能帶和PN結 2 1 能帶 2 2 半導體PN結 習題 參考文獻 第二篇 微納製造工藝 第3章 摻雜 3 1 擴散 3 2 離子注入 習題 參考文獻 第4章 外延生長技術 4 1 晶體外延生長 4 2 氫化物氣相外延(HVPE) 4 3 金屬有機化合物化學氣相沉積(MOCVD) 4 4 分子束外延(MBE) 習題 參考文獻 第5章 光刻工藝 5 1 光刻原理 5 2 光學曝光技術 5 3 光刻工藝流程 5 4 光刻膠特性 5 5 光刻掩模版製作 5 6 極紫外光刻技術 5 7 其他光刻技術 習題 參考文獻 第6章 納米壓印光刻技術 6 1 納米壓印光刻技術簡介 6 2 納米壓印模具 6 3 模具表面處理 6 4 壓印光刻膠 6 5 典型納米壓印光刻工藝 習題 參考文獻 第7章 刻蝕 7 1 刻蝕原理 7 2 濕法刻蝕 7 3 干法刻蝕 7 4 刻蝕技術應用 習題 參考文獻 第8章 沉積技術 8 1 物理氣相沉積技術 8 2 化學氣相沉積技術 習題 參考文獻 第三篇 半導體器件 第9章 器件測試分析與表徵技術 9 1 掃描電子顯微鏡 9 2 透射電子顯微鏡 9 3 原子力顯微鏡 9 4 X射線光電子能譜 9 5 X射線衍射 9 6 拉曼光譜 9 7 俄歇電子能譜儀 9 8 原子探針層析技術 9 9 二次離子質譜分析 習題 參考文獻 第10章 Ⅲ族氮化物發光二極體 10 1 發光二極體介紹 10 2 LED外延結構及生長工藝 10 3 LED晶元結構及製造工藝 習題 參考文獻 第11章 SiC壓阻式壓力感測器 11 1 SiC壓阻式壓力感測器工作原理 11 2 SiC壓阻式壓力感測器設計與製造 習題 參考文獻 第12章 器件模擬軟體 12 1 SimuLED 12 2 Silvaco TCAD 12 3 COMSOL Multiphysics 12 4 LightTools 12 5 FDTD Solutions 習題 參考文獻 詳細資料或其他書籍請至台灣高等教育出版社查詢,查後請於PChome商店街私訊告知ISBN或書號,我們即儘速上架。 |