光學元件磁流變拋光理論與關鍵技術 石峰 宋辭 9787118129977 【台灣高等教育出版社】
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物品所在地：中國大陸
原出版社：國防工業
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| *完成訂單後正常情形下約兩周可抵台。 *本賣場提供之資訊僅供參考，以到貨標的為正確資訊。 印行年月：202307*若逾兩年請先於私訊洽詢存貨情況，謝謝。 台灣(台北市)在地出版社，每筆交易均開具統一發票，祝您中獎最高1000萬元。 書名：光學元件磁流變拋光理論與關鍵技術 ISBN：9787118129977 出版社：國防工業 著編譯者：石峰 宋辭 頁數：292 所在地：中國大陸 *此為代購商品 書號：1559317 可大量預訂，請先連絡。 內容簡介 本書介紹了光學元件磁流變拋光理論與關鍵工藝，尤其重點介紹了離軸非球面光學元件磁流變拋光關鍵技術。第1章∼第6章側重介紹磁流變拋光的理論和工藝研究，主要針對高精度光學鏡面磁流變拋光過程中的去除函數多參數模型、表面與亞表面質量控制、駐留時間高精度求解與實現、修形工藝優化方法等關鍵問題進行深入研究和實驗驗證；第7章∼第12章以離軸非球面光學零件的高精高效製造為需求牽引，針對離軸非球面磁流變拋光過程中的關鍵理論和工藝問題開展研究，旨在實現面形誤差和特徵量參數雙重約束條件下的離軸非球面光學零件的磁流變拋光，形成基於磁流變拋光技術的加工工藝路線，從而進一步提高我國離軸非球面光學零件的製造水平。 本書可供從事機械工程和光學工程的研究人員和工程設計人員參考使用，特別是對高精度光學鏡面的製造人員具有較好的參考價值。目錄 第1章 緒論1 1 研究背景和意義 1 1 1 高精度光學鏡面的需求 1 1 2 高精度光學鏡面拋光方法 1 1 3 本書研究的意義 1 2 磁流變拋光國內外研究現狀 1 2 1 磁流變拋光技術發展過程 1 2 2 磁流變拋光技術國內外發展現狀 1 2 3 磁流變拋光關鍵技術與研究熱點 1 3 主要研究內容 第2章 磁流變拋光系統 2 1 計算機控制光學表面成形原理 2 1 1 計算機控制光學表面成形的理論基礎 2 1 2 計算機控制光學表面成形工藝對磁流變拋光系統的基本要求 2 2 KDMRF-1000F系統組成與性能分析 2 2 1 系統組成及主要性能 2 2 2 多軸運動系統性能分析 2 2 3 循環控制系統性能分析 2 2 4 磁流變液配製與性能分析 第3章 磁流變拋光區域流體動力學分析與計算 3 1 Bingham流體動力學基本方程 3 2 拋光區域磁流變液成核狀態分析 3 3 實驗驗證 第4章 磁流變拋光表面與亞表面質量實驗分析 4 1 磁流變拋光表面質量實驗分析 4 1 1 磁流變拋光表面質量影響因素分析 4 1 2 常見光學材料磁流變拋光表面粗糙度 4 2 磁流變拋光亞表面損傷實驗分析 4 2 1 磁流變消除磨削亞表面裂紋層實驗分析 4 2 2 磁流變消除傳統拋光亞表面損傷實驗分析 第5章 磁流變修形駐留時間高精度求解與實現 5 1 磁流變修形過程評價指標 5 2 磁流變修形駐留時間求解演算法 5 2 1 線性方程組模型 5 2 2 加權非負廣義最小殘差演算法 5 2 3 駐留時間求解模擬分析 5 3 基於運動系統動態性能的駐留時間實現方法 5 4 駐留時間求解與實現的聯合優化 5 5 駐留時間求解與實現的實驗驗證 5 5 1 線性掃描加工路徑 5 5 2 極軸掃描加S-路徑 5 6 基於熵增原理抑制磁流變修形中高頻誤差 5 6 1 基於熵增原理的局部隨機加工路徑 5 6 2 實驗驗證 第6章 高精度光學鏡面磁流變拋光試驗 6 1 磁流變拋光試驗設計 6 2 大中型平面反射鏡磁流變拋光試驗 6 2 1 口徑202mm平面反射鏡 6 2 2 口徑605mm平面反射鏡 6 3 大中型球面、非球面反射鏡磁流變拋光試驗 6 3 1 口徑200mm球面反射鏡 6 3 2 口徑200mm非球面反射鏡 6 3 3 口徑500mm非球面反射鏡 6 4 輕質薄型、異形平面反射鏡磁流變拋光試驗 6 4 1 輕質薄型碳化硅平面反射鏡 6 4 2 異形碳化硅平面反射鏡 第7章 離軸非球面加工技術簡介 7 1 離軸非球面背景和意義 7 1 1 離軸非球面特徵分析 7 1 2 離軸非球面應用需求 7 2 離軸非球面加工技術現狀 7 2 1 加工方法綜述 7 2 2 關鍵參數控制研究現狀 7 2 3 國內離軸非球面加工現狀 7 3 離軸光學零件磁流變拋光研究現狀 第8章 離軸非球面修形理論 8 1 變曲率去除函數建模 8 1 1 去除函數模型分析 8 1 2 去除函數形狀模型 8 1 3 去除函數效率模型 8 1 4 去除函數實驗 8 2 計算機控製成形模型 8 2 1 線性成形過程 8 2 2 非線性成形過程 8 3 高動態性駐留時間模型及演算法 8 3 1 高動態性駐留時間模型 8 3 2 高動態性駐留時間演算法 8 3 3 不同駐留時間模型模擬 第9章 去除函數多參數建模與實驗分析 9 1 去除函數多參數理論模型 9 1 1 磁流變拋光過程理論分析 9 1 2 單顆磨粒所受載荷與壓入深度理論計算 9 1 3 去除效率理論模型 9 1 4 表面粗糙度理論模型 9 2 去除函數多參數模型實驗分析 9 2 1 5工藝參數對去除函數的影響 9 2 2 去除函數多參數模型準確性分析 9 2 3 材料和磁流變液對去除函數的影響 9 3 去除函數基本特性實驗分析 9 3 1 去除函數穩定性 9 3 2 去除函數相似性 9 3 3 去除函數線性 9 4 去除函數誤差影響分析與優化方法 9 4 1 去除函數誤差影響分析 9 4 2 去除函數誤差優化方法 9 4 3 實驗驗證 第10章 離軸非球面修形工藝 10 1 加工位姿模型 10 1 1 加工位姿建模 10 1 2加工特性分析 10 1 3 加工位姿模型模擬 10 2 離軸非球面修形工藝評估 10 2 1 去除函數特性評估 10 2 2 補償修形工藝選擇 10 3 去除函數線性補償修形工藝 10 3 1 去除函數線性誤差分析 10 3 2 修形過程誤差傳遞模型 10 3 3 修形過程誤差作用模擬 10 3 4 線性補償修形工藝及實驗 10 4 去除函數非線性補償修形工藝 10 4 1 去除函數非線性誤差分析 10 4 2 非線性補償修形工藝分析 10 4 3 非線性補償修形實驗驗證 第11章 特徵量參數測量與控制 11 1 離軸量測量與控制 11 1 1 離軸量標定過程 11 1 2 離軸量測量實驗 11 2 頂點曲率半徑及二次曲面常數控制 11 2 1 理論測算模型 11 2 2 標定實 詳細資料或其他書籍請至台灣高等教育出版社查詢，查後請於PChome商店街私訊告知ISBN或書號，我們即儘速上架。 |
