*完成訂單後正常情形下約兩周可抵台。 *本賣場提供之資訊僅供參考,以到貨標的為正確資訊。 印行年月:202210*若逾兩年請先於私訊洽詢存貨情況,謝謝。 台灣(台北市)在地出版社,每筆交易均開具統一發票,祝您中獎最高1000萬元。 書名:3D集成手冊.第3卷.三維工藝技術 ISBN:9787515921648 出版社:中國宇航 著編譯者:菲利普.加洛 小柳光政 頁數:369 所在地:中國大陸 *此為代購商品 書號:1653136 可大量預訂,請先連絡。 內容簡介 3D集成手冊的主要編輯是來自高科技公司和著名研究機構的頂級作者,這本書涵蓋了3D工藝技術詳細的細節。因此,從技術和材料科學的角度來看,本書主要關注的是硅的形成、鍵合和解鍵合、減薄、露頭和背面處理等工藝。本書的最後一部分是關於評估和增強3D集成設備的可靠性,這是這種新興技術大規模實施的先決條件。對材料科學家,半導體物理學家,和那些工作在半導體領域,以及IT和電氣工程師有非常閱讀價值。目錄 第1章 2008年以來的3D IC集成第2章 3D集成和轉接板技術的主要應用和市場趨勢 第3章 2 5D/3D集成的經濟驅動因素和障礙 第4章 轉接板技術 第5章 TSV製造綜述 第6章 TSV單元工藝和集成 第7章 ASET的TSV製備 第8章 激光輔助晶圓加工:穿透襯底鑽孔和再布線層沉積的新視角 第9章 臨時鍵合材料的需求 第10章 臨時鍵合和解鍵合——材料和方法的更新換代 第11章 ZoneBOND:臨時鍵合和室溫解鍵合技術的最新進展 第12章 TOK的臨時鍵合和解鍵合 第13章 3M晶圓支撐系統 第14章 臨時鍵合和解鍵合工藝流程的比較 第15章 減薄、通孔露頭和背面工藝概述 第16章 薄硅片背面減薄和應力消除技術 第17章 通孔露頭和背面處理工藝 第18章 切割、減薄和拋光 第19章 三維集成的鍵合和組裝概述 第20章 台積電(TSMC)的鍵合與組裝 詳細資料或其他書籍請至台灣高等教育出版社查詢,查後請於PChome商店街私訊告知ISBN或書號,我們即儘速上架。 |