先進計算光刻李艷秋馬旭孫義鈺袁淼 9787030781246 【台灣高等教育出版社】

Name: 先進計算光刻 李艷秋 馬旭 孫義鈺 袁淼 9787030781246 【台灣高等教育出版社】
Brand: abooksthep
Price: 827.0 TWD
Availability: InStock

圖書均為代購，正常情形下，訂後約兩周可抵台。
物品所在地：中國大陸
原出版社：科學

NT$827

商品編號:

供貨狀況: 尚有庫存

加入最愛

商品介紹

*完成訂單後正常情形下約兩周可抵台。
*本賣場提供之資訊僅供參考，以到貨標的為正確資訊。
印行年月：202404*若逾兩年請先於私訊洽詢存貨情況，謝謝。
台灣(台北市)在地出版社，每筆交易均開具統一發票，祝您中獎最高1000萬元。
書名：先進計算光刻
ISBN：9787030781246
出版社：科學
著編譯者：李艷秋馬旭孫義鈺袁淼
頁數：233
所在地：中國大陸 *此為代購商品
書號：1647501
可大量預訂，請先連絡。

內容簡介

先進計算光刻技術是集成電製造裝備和工藝的核心技術。本書主要介紹作者在20餘年從事光刻機研發中，建立的先進計算光刻技術，包括矢量計算光刻、快速-全晶元計算光刻、高穩定-高保真計算光刻、光源-掩模-工藝多參數協同計算光刻等，能夠實現快速-高精度-全曝光視場-低誤差敏感度的高性能計算光刻。矢量計算光刻包括零誤差、全光路嚴格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技術。快速-全晶元計算光刻包括壓縮感知、貝葉斯壓縮感知、全晶元壓縮感知計算光刻技術。高穩定-高保真計算光刻包括低誤差敏感度的SMO技術、全視場多目標SMO技術、多目標標量和矢量光瞳優化技術。光源-掩模-工藝多參數協同計算光刻包括含偏振像差、工件台振動誤差、雜散光誤差的光刻設備-掩模-工藝多參數協同優化技術。解決傳統計算光刻在零誤差假設、局域坐標系、理想遠心、單個視場點獲得的掩模-光源，無法最佳匹配實際光刻系統之所需，導致增加工藝迭代時間的問題。本書可供從事光學成像、計算成像、計算光刻、晶元製造工藝、光刻機曝光系統設計-加工-檢測-集成協同研製、空間光學、高性能光學儀器等領域的師生、科研人員、工程師、軟體開發人員學習。

序
前言
第1章緒論
1 1 光刻機和光刻成像
1 1 1 光刻機簡史
1 1 2 光刻成像及其性能指標
1 1 3 影響光刻成像性能的主要因素
1 2 傳統解析度增強技術
1 2 1 離軸照明
1 2 2 相移掩模
1 2 3 基於規則的光學鄰近效應校正
1 2 4 偏振照明
1 3 計算光刻技術
1 3 1 光刻成像模型
1 3 2 先進計算光刻目標函數
1 3 3 先進計算光刻演算法
參考文獻
第2章矢量計算光刻技術
2 1 矢量光刻成像理論基礎
2 1 1 二維矢量成像模型
2 1 2 三維嚴格矢量光刻成像模型
2 1 3 二維-三維的矢量光刻成像分析
2 2 零誤差矢量計算光刻技術
2 2 1 採用矢量成像模型的OPC技術
2 2 2 採用矢量成像模型的SMO技術
參考文獻
第3章快速-全晶元計算光刻技術
3 1 壓縮感知計算光刻技術
3 1 1 壓縮感知光源優化技術
3 1 2 非線性壓縮感知光源-掩模優化技術
3 2 貝葉斯壓縮感知計算光刻技術
3 2 1 貝葉斯壓縮感知光源優化技術
3 2 2 非線性貝葉斯壓縮感知光源-掩模優化技術
3 3 全晶元壓縮感知計算光刻技術
參考文獻
第4章高穩定-高保真計算光刻技術
4 1 誤差對計算光刻的影響
4 1 1 波像差與偏振像差的定義與表徵
4 1 2 波像差對計算光刻的影響
4 1 3 偏振像差對計算光刻的影響
4 1 4 光源非均勻性與雜散光對計算光刻的影響
4 2 高穩定-高保真光源-掩模優化技術
4 2 1 低誤差敏感度的光源-掩模優化技術
4 2 2 全視場多目標光源-掩模優化技術
4 3 高穩定-高保真光瞳優化技術
4 3 1 多目標標量光瞳優化技術
4 3 2 多目標矢量光瞳優化技術
參考文獻
第5章光源-掩模-工藝多參數協同計算光刻技術
5 1 多參數協同優化技術基礎
5 1 1 工藝參數對圖形保真的影響
5 1 2 多目標函數構建
5 1 3 多參數協同優化方法
5 2 多參數協同優化技術及應用
5 2 1 零誤差光刻系統的多參數協同優化技術及應用
5 2 2 非零誤差光刻系統的多參數協同優化技術及應用
參考文獻
詳細資料或其他書籍請至台灣高等教育出版社查詢，查後請於PChome商店街私訊告知ISBN或書號，我們即儘速上架。