薄膜生長技術金克新 9787030766335 【台灣高等教育出版社】

Name: 薄膜生長技術 金克新 9787030766335 【台灣高等教育出版社】
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書名：薄膜生長技術
ISBN：9787030766335
出版社：科學
著編譯者：金克新
頁數：244
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書號：1586474
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內容簡介

本書以作者在西北工業大學物理科學與技術學院的「薄膜物理學」課程講義為藍本，參考國內外薄膜物理學經典教材，主要論述薄膜物理與薄膜生長技術的基本內容，系統介紹薄膜的形成與生長、物理化學製備薄膜的原理與方法，包括真空蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子束鍍膜、化學氣相沉積、脈衝激光分子束外延法等，注重激發學生的學習興趣，提升學生的學習能力。本書適用於物理學與材料學專業的高年級本科生，也可供材料物理與化學、凝聚態物理等專業的碩士研究生使用，還可供相關領域科研工作者參考閱讀。

前言
第1章薄膜的形成與生長
1 1 概述
1 2 凝結與表面擴散
1 2 1 吸附
1 2 2 表面擴散
1 2 3 凝結過程
1 3 晶核的形成與生長
1 3 1 物理過程
1 3 2 實驗觀察
1 3 3 熱學界面能理論
1 3 4 原子聚集理論
1 4 薄膜生長模式
1 4 1 薄膜生長原理
1 4 2 薄膜形成過程
1 4 3 薄膜生長的三種模式
1 5 薄膜的結構與缺陷
1 5 1 薄膜生長的晶帶模型
1 5 2 纖維狀生長模型
1 5 3 薄膜的缺陷
1 5 4 外延薄膜的生長
1 6 本章小結
習題
參考文獻
第2章真空蒸發鍍膜
2 1 真空蒸發鍍膜原理
2 1 1 概述
2 1 2 飽和蒸氣壓
2 1 3 蒸發粒子的速度與能量
2 1 4 蒸發速率與沉積速率
2 1 5 厚度分佈
2 2 蒸發源特性
2 2 1 加熱方式
2 2 2 蒸發特性
2 2 3 基板配置
2 2 4 合金及化合物的蒸發
2 3 本章小結
習題
參考文獻
第3章濺射鍍膜
3 1 濺射原理
3 1 1 概述
3 1 2 輝光放電
3 1 3 基本概念
3 1 4 濺射過程與濺射機制
3 2 濺射方式
3 2 1 二極濺射
3 2 2 偏壓濺射
3 2 3 三極濺射和四極濺射
3 2 4 射頻濺射
3 2 5 磁控濺射
3 2 6 ECR濺射
3 2 7 對向靶濺射
3 2 8 反應濺射
3 2 9 零氣壓濺射
3 2 10 自濺射
3 2 11 離子束濺射
3 3 濺射鍍膜的厚度均勻性分析
3 3 1 二極濺射的膜厚均勻性分析
3 3 2 磁控濺射的膜厚均勻性分析
3 4 濺射鍍膜與真空蒸發鍍膜的比較
3 5 本章小結
習題
參考文獻
第4章離子束鍍膜
4 1 離子鍍原理
4 2 離子鍍對鍍膜的影響
4 2 1 離化率
4 2 2 沉積前離子轟擊的效果
4 2 3 離子轟擊對薄膜生長的影響
4 2 4 離子轟擊對基體和鍍層交界面的影響
4 2 5 離子鍍的蒸發源
4 3 離子鍍的類型及特點
4 3 1 直流二極型離子鍍
4 3 2 三極型和多陰極方式的離子鍍
4 3 3 多弧離子鍍
4 3 4 活性反應離子鍍
4 3 5 空心陰極放電離子鍍
4 4 本章小結
習題
參考文獻
第5章化學氣相沉積
5 1 概述
5 2 基本原理
5 2 1 沉積過程
5 2 2 反應類型
5 2 3 特點及應用
5 3 化學氣相沉積類型
5 3 1 熱化學氣相沉積
5 3 2 等離子體化學氣相沉積
5 3 3 光化學氣相沉積
5 3 4 金屬有機化學氣相沉積
5 3 5 金屬化學氣相沉積
5 4 本章小結
習題
參考文獻
第6章脈衝激光分子束外延法
6 1 概述
6 1 1 方法簡介
6 1 2 方法特點
6 2 沉積過程及原理
6 2 1 沉積過程
6 2 2 沉積原理
6 3 影響薄膜質量的因素
6 3 1 偏軸、靶基距的影響
6 3 2 激光參數的影響
6 3 3 襯底材料的影響
6 3 4 襯底溫度的影響
6 3 5 沉積氣氛及壓強的影響
6 3 6 清洗工藝的影響
6 3 7 表面活性劑的影響
6 3 8 PLD鍍膜實例
6 4 激光鍍膜技術的發展與應用前景
6 4 1 激光鍍膜技術的發展
6 4 2 激光鍍膜技術的應用前景
6 5 本章小結
習題
參考文獻
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