多尺度模擬方法在半導體材料位移損傷研究中的應用 9787030764690 賀朝會 唐杜 臧航 鄧亦凡 田賞

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書名:多尺度模擬方法在半導體材料位移損傷研究中的應用
ISBN:9787030764690
出版社:科學
著編譯者:賀朝會 唐杜 臧航 鄧亦凡 田賞
叢書名:輻射環境模擬與效應叢書
頁數:212
所在地:中國大陸 *此為代購商品
書號:1581397
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【台灣高等教育出版社簡體書】 多尺度模擬方法在半導體材料位移損傷研究中的應用 787030764690 賀朝會 唐杜 臧航 鄧亦凡 田賞

內容簡介

本書系統介紹了用於材料位移損傷研究的多尺度模擬方法,包括輻射與材料相互作用模擬方法、分子動力學方法、動力學蒙特卡羅方法、第一性原理方法、器件電學性能模擬方法等,模擬尺寸從原子尺度的10-10m到百納米,時間從亞皮秒量級到106s,並給出了多尺度模擬方法在硅、砷化鎵、碳化硅、氮化鎵材料位移損傷研究中的應用,揭示了典型半導體材料的位移損傷機理和規律,在核技術和輻射物理學科的發展、位移損傷效應研究、人才培養等方面具有重要的學術意義和應用價值。 本書可作為輻射物理、核技術、微電子學、空間電子學、電子元器件等領域科研人員的參考書,也可供輻射效應研究、半導體材料應用、宇航電子系統設計等領域的工程技術人員參考。

目錄

叢書序
前言
主要符號表
第1章 緒論
1 1 位移損傷效應
1 2 單粒子位移損傷效應
1 3 位移損傷的多尺度特點
1 4 位移損傷缺陷的產生及演化模擬
參考文獻
第2章 多尺度模擬方法
2 1 輻射與材料相互作用模擬方法
2 1 1 載能粒子與原子核的碰撞動力學
2 1 2 二體碰撞近似方法
2 2 分子動力學方法
2 3 動力學蒙特卡羅方法
2 4 第一性原理方法
2 4 1 第一性原理計算方法
2 4 2 VASP軟體
2 5 器件電學性能模擬方法
2 5 1 缺陷複合理論
2 5 2 位移損傷缺陷的電學性質
2 5 3 Sentaurus TCAD軟體
參考文獻
第3章 多尺度模擬方法在硅材料位移損傷研究中的應用
3 1 離子入射硅引起的位移損傷缺陷初態研究
3 1 1 離子入射硅初級碰撞過程的蒙特卡羅模擬
3 1 2 硅中離位級聯的分子動力學模擬
3 2 位移損傷缺陷的長時間演化機理研究
3 2 1 中子在硅中產生的初級反衝原子能量分佈計算
3 2 2 位移損傷缺陷長時間演化的動力學蒙特卡羅模擬
3 2 3 位移損傷缺陷的長時間演化機理
3 2 4 空間均勻分佈缺陷的長時間演化機理
3 2 5 位移損傷電流退火因子
3 3 重離子引起的單粒子位移損傷電流計算
3 3 1 單粒子位移損傷電流計算方法
3 3 2 252Cf輻照超低泄漏電流二極體的單粒子位移損傷電流計算
3 4 本章小結
參考文獻
第4章 多尺度模擬方法在砷化鎵材料位移損傷研究中的應用
4 1 質子在GaAs中初級離位碰撞模擬
4 1 1 物理模型
4 1 2 質子入射GaAs材料全射程模擬
4 1 3 質子垂直入射GaAs太陽電池模擬
4 2 GaAs中級聯碰撞的分子動力學模擬
4 2 1 計算方法
4 2 2 結果與討論
4 3 GaAs中輻照缺陷長時間演化的KMC模擬
4 3 1 GaAs中輻照缺陷相關性質計算及KMC模擬設置
4 3 2 結果與討論
4 4 本章小結
參考文獻
第5章 多尺度模擬方法在碳化硅材料位移損傷研究中的應用
5 1 中子與SiC材料初級碰撞模擬
5 1 1 初級碰撞模擬設置
5 1 2 初級碰撞模擬結果
5 2 PKA級聯碰撞的分子動力學模擬
5 2 1 勢函數與材料結構模型
5 2 2 計算內容與程序設計
5 2 3 數據處理方法
5 2 4 結果與討論
5 3 4H-SiC中缺陷長時間演化的KMC模擬
5 3 1 計算方法
5 3 2 程序設計
5 3 3 結果與討論
5 4 位移損傷致反向漏電流的計算
5 5 本章小結
參考文獻
第6章 多尺度模擬方法在氮化鎵材料位移損傷研究中的應用
6 1 不同中子能譜環境下GaN中產生的初級反衝原子能譜研究
6 2 10keV PKA在GaN中離位級聯的分子動力學模擬研究
6 2 1 點缺陷的演化規律
6 2 2 點缺陷的空間分佈及缺陷團簇
6 2 3 點缺陷產生與溫度的關係
6 3 基於動力學蒙特卡羅的GaN位移損傷缺陷演化的模擬研究
6 4 1MeV中子輻照GaN產生缺陷的演化模擬研究
6 4 1 1MeV中子在GaN中產生的初級反衝原子
6 4 2 不同能量PKA在GaN中產生缺陷的分子動力學模擬研究
6 4 3 基於動力學蒙特卡羅的位移損傷缺陷演化模擬研究
6 4 4 基於TCAD的GaN電學特性研究
6 5 本章小結
參考文獻
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