聚焦離子束-應用與實踐 鄧昱 魏大慶 王英 陳振 9787305274091 【台灣高等教育出版社】
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物品所在地：中國大陸
原出版社：南京大學
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| *數量非實際在台庫存 *完成訂單後正常情形下約兩周可抵台。 *本賣場提供之資訊僅供參考，以到貨標的為實際資訊。 印行年月：202402*若逾兩年請先於私訊洽詢存貨情況，謝謝。 台灣(台北市)在地出版社，每筆交易均開具統一發票，祝您中獎最高1000萬元。 書名：聚焦離子束-應用與實踐 ISBN：9787305274091 出版社：南京大學 著編譯者：鄧昱 魏大慶 王英 陳振 頁數：204 所在地：中國大陸 *此為代購商品 書號：1606820 可大量預訂，請先連絡。 內容簡介 本書力求從簡要、易懂、可操作性強的角度出發，概述FIB的工作原理，清晰介紹FIB誘導沉積、濺射刻蝕過程及重要控制參數；詳細說明FIB的離子注入和離子束曝光過程以及主要影響參數；從實際工作角度出發，示例說明FIB樣品前後處理的過程和注意要點；詳細介紹離子束在集成電路中的應用，以及聯合其他顯微分析設備開展微觀材料、器件剖析的步驟過程。本書提供了大量鮮活案例，主要為編者及其團隊的真實實驗結果，凝聚了編者們技術探索的經驗總結，具有較強的典型性和參考性。作者簡介 鄧昱，南京大學亞原子電鏡中心主任、現代工程與應用科學學院博士生導師，中國分析測試協會青年委員會副主任委員，江蘇省電鏡學會副主任委員。目錄 第一章 聚焦離子束原理1 1 聚焦離子束的基本結構 1 1 1 聚焦離子束的系統的分類 1 1 2 離子槍的結構 1 1 3 雙束設備樣品室布局與工作台 1 2 離子束與材料的作用及離子束加工基本功能原理 1 2 1 離子束與材料的作用 1 2 2 聚焦離子束的主要功能 第二章 聚焦離子束誘導沉積 2 1 FIB中的電子束與離子束誘導沉積 2 1 1 電子束誘導沉積原理和技術特點 2 1 2 離子束誘導沉積原理和技術特點 2 1 3 離子束與電子束沉積的參數選擇 2 2 沉積層的電學特性 2 2 1 離子束誘導沉積層的電學特性 2 2 2 電子束誘導沉積保護層的電學特性 2 2 3 利用沉積參數調控保護層的電學特性 2 3 保護層沉積 2 3 1 保護層種類的選擇 2 3 2 敏感樣品保護層的沉積方法和參數選擇 第三章 聚焦離子束濺射刻蝕 3 1 聚焦離子束入射與固體材料表面的相互作用 3 1 1 產生的信號類型 3 1 2 離子入射到固體材料中的射程 3 2 聚焦離子束的濺射刻蝕 3 2 1 入射離子能量對濺射產額的影響 3 2 2 入射高能離子角度對濺射產額的影響 3 2 3 目標材料層數及厚度對濺射產額的影響 3 2 4 化學活性氣體對濺射產額的影響 3 2 5 濺射原子再沉積對濺射刻蝕效果的影響 3 2 6 聚焦離子束掃描方式加工對濺射刻蝕效果的影響 3 3 聚焦離子束的濺射刻蝕總結 3 3 1 物理離子束濺射刻蝕主要特點 3 3 2 反應離子束濺射刻蝕主要特點 3 4 聚焦離子束濺射刻蝕的具體實例 3 4 1 以雙柬電鏡製備透射樣品為例濺射刻蝕 3 4 2 以TESCAN電鏡製備透射樣品為例濺射刻蝕 第四章 聚焦離子束注入與離子束曝光 4 1 FIB離子注入 4 2 FIB離子注入的優缺點 4 3 FIB離子束注入技術實例 4 4 F1B離子束曝光 4 4 1 FIB離子束曝光的優點 4 4 2 FIB離子束曝光的缺點 第五章 聚焦離子束在集成電路中的應用 5 1 聚焦離子束在晶元修復中的應用 5 1 1 聚焦離子束晶元修複流程 5 1 2 電路修復的操作過程 5 2 聚焦離子束在集成電路失效分析中的應用 5 2 1 鈍化層裂紋深度分析 5 2 2 MOS管打火失效分析 5 2 3 晶元IGSS漏電過大失效分析 5 3 總結與展望 第六章 聚焦離子束聯合使用模式 6 1 FIB與掃描電鏡及EDS、EBSD聯合使用 6 1 1 FIB與掃描電鏡聯用原理和技術特點 6 1 2 FIB—SEM與EDS聯合使用原理和技術特點 6 1 3 FIB—SEM與EBSD聯合使用原理和技術特點 6 2 FIB與激光聯用的技術原理和技術特點 6 2 1 激光與聚焦離子束聯用發展背景 6 2 2 FIB與激光聯用在TEM制樣中的應用 6 2 3 FIB與激光聯用在微納結構加工中的應用 6 3 FIB與二次離子質譜聯合使用 6 3 1 FIB與二次離子質譜聯合使用原理和技術特點 6 3 2 FlB與二次離子質譜聯合使用在材料分析中的應用 6 3 3 FIB與飛行時間二次離子質譜聯用三維分析簡介 6 4 F1B與光鏡及CT聯合使用 6 4 1 F1B與光鏡及CT聯合使用原理和技術特點 6 4 2 F1B與CT聯合使用在晶元分析中的應用 6 4 3 FIB與CT聯合使用在礦物分析中的應用 6 5 FIB與冷凍傳輸系統(Cryo)聯用原理及技術特點 6 6 展望 第七章 聚焦離子束樣品前／後期處理 7 1 FIB樣品前期處理 7 1 1 機械切割 7 1 2 樣品剪薄 7 1 3 研磨與拋光 7 1 4 導電層及保護層製備 7 2 FIB樣品後期處理 7 2 1 清洗和處理 7 2 2 觀察與分析 7 2 3 材料測試 附錄一 聚焦離子束基本操作 1 電鏡樣品的前處理 2 雙束電鏡的基本操作 附錄二 SRIM／TRIM模擬計算高能離子束入射后離子運動軌跡 1 軟體原理 2 軟體模擬的基本過程 3 軟體模擬模擬計算過程 4 利用TRIM和SRIM軟體模擬計算離子運動軌跡 附錄三 Geant4模擬概述 1 Geant4模擬原理 2 Geant4模擬程序簡介 3 實例 詳細資料或其他書籍請至台灣高等教育出版社查詢，查後請於PChome商店街私訊告知ISBN或書號，我們即儘速上架。 |
