內容簡介
本書共8章。其中,第1章介紹Si基GaN材料與晶元的研究意義,著重分析了GaN材料的性質和Si基GaN外延材料與晶元製備的發展歷程。第2章從Si基GaN材料的外延生長機理出發,依次介紹了GaN薄膜、零維GaN量子點、一維GaN納米線和二維GaN生長所面臨的技術難點及對應的生長技術調控手段。第3~7章依次介紹了Si基GaNLED材料與晶元、Si基GaN高電子遷移率晶體管、Si基GaN肖特基二極體、Si基GaN光電探測晶元和Si基GaN光電解水晶元的工作原理、技術瓶頸、製備工藝以及晶元性能調控技術,並介紹了上述各種Si基GaN晶元的應用與發展趨勢。第8章對Si基GaN集成晶元技術進行了闡述。 本書可用作高等學校半導體、微電子、光電子、材料科學與工程等學科專業的教輔用書;也可供上述相關領域,特別是Si基GaN材料及晶元領域的科研工作者及從業人員參考。目錄
《半導體科學與技術叢書》出版說明