內容簡介
本書概述了業界前沿研究者所採取的技術方法,以及他們所面臨的挑戰和在該領域所取得的進展。具體內容包括寬禁帶半導體器件中的熱問題、氮化鎵(GaN)及相關材料的第一性原理熱輸運建模、多晶金剛石從介觀尺度到納米尺度的熱輸運、固體界面熱輸運基本理論、氮化鎵界面熱導上限的預測和測量、AlGaN/GaNHEMT器件物理與電熱建模、氮化鎵器件中熱特性建模、AlGaN/GaNHEMT器件級建模模擬、基於電學法的熱表徵技術——柵電阻測溫法、超晶格梯形場效應晶體管的熱特性、用於氮化鎵器件高解析度熱成像的瞬態熱反射率法、熱匹配QST襯底技術、用於電子器件散熱的低應力納米金剛石薄膜、金剛石基氮化鎵材料及器件技術綜述、金剛石與氮化鎵的三維集成、基於室溫鍵合形成的高導熱半導體界面、AlGaN/GaN器件在金剛石襯底上直接低溫鍵合技術、氮化鎵電子器件的微流體冷卻技術、氮化鎵熱管理技術在Ga2O3整流器和MOSFET中的應用。 本書可作為氮化鎵半導體器件研究人員、開發人員和工程技術人員的參考用書,也可以作為高等院校相關專業高年級本科生和研究生的參考用書。作者簡介
馬爾科·J 塔德爾(Marko J Tadjer)博士就職于華盛頓特區美國海軍研究實驗室。他於2002年獲得阿肯色大學(University of Arkansas)電氣和計算機工程學士學位,2004年獲得杜克大學(Duke University)電氣工程碩士學位,2010年獲得馬里蘭大學帕克分校(University of Maryland,College Park)電氣工程博士學位。他在功率器件方面的研究重點是將金剛石等具有吸引力的材料與更成熟的GaN和SiC技術相結合,以及探索用於電力電子應用的新型氧化物,如Ga2O3。目錄
譯者序