內容簡介
本書系統介紹了人工晶體生長的基礎理論和相圖技術,在此基礎上全面介紹了人工晶體生長主流技術如水溶液法、助熔劑法、水熱法、焰熔法、提拉法和坩堝下降法等,詳細介紹了上述人工晶體生長技術的基本原理、設備設計與構造、生長工藝以及它們的優缺點等。同時,作者結合自身多年科研工作成果積累,選擇性介紹了幾種重要的光電子晶體材料的生長技術。 本書可作為高年級本科生、碩士和博士研究生以及從事晶體材料研究初期工作人員的學習參考書和入門引導。作者簡介
王國富,1949年11月出生,福建福州人,博士,中國科學院福建物質結構研究所二級研究員,博士生導師,原晶體材料研究室主任。1977年畢業於福州大學化學化工系,1996年獲英國Strathclyde大學物理哲學博士學位。長期從事光電子功能晶體材料研究,參加研究工作以來獲得10項科技成果:國家科技進步獎二等獎1項,省部級科學技術獎一等獎3項、二等獎5項、三等獎1項。發表論文280多篇,參編著作4部,獲授權發明專利35項和實用新型專利5項。獲國務院政府特殊津貼、全國化工優秀科技工作者、首屆福建省優秀人才和第七屆福建紫金科技創新獎等榮譽稱號。先後受邀任中國硅酸鹽學會晶體生長和材料分會副理事長、中國光學學會光學材料專委會副主任、《人工晶體學報》副主任委員和福州市委、市政府科技顧問。目錄
前言