中國電子信息工程科技發展研究-光學工程專題 9787030730794 中國信息與電子工程科技發展戰略研究中心

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書名：中國電子信息工程科技發展研究-光學工程專題
ISBN：9787030730794
出版社：科學
著編譯者：中國信息與電子工程科技發展戰略研究中心
頁數：239
所在地：中國大陸 *此為代購商品
書號：1513244
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【台灣高等教育出版社簡體書】 中國電子信息工程科技發展研究-光學工程專題 787030730794 中國信息與電子工程科技發展戰略研究中心

內容簡介

光學工程是把光學理論應用於實際的一類工程學科，當前的光學工程以光學和光電子技術為主，與信息科學、生命科學、空間科學、材料科學、能源科學、精密機械與製造、計算機科學及微電子科學等緊密交叉和相互滲透。本書主要研究應用光學、激光技術、紅外技術等方面的全球發展態勢、我國發展現狀、我國未來展望，以及2020～2021年我國熱點學科研究取得的重要進展情況，希望能為我國光電工程領域的發展提供參考。 本書適合高等院校光學工程、物理等專業的本科生、研究生及教師閱讀，也可供相關領域的產業工程科技人員參考。

作者簡介

中國信息與電子工程科技發展戰略研究中心，中國工程院是中國工程科學技術界的最高榮譽性、諮詢性學術機構，是首批國家高端智庫試點建設單位，致力於研究國家經濟社會發展和工程科技發展中的重大戰略問題，建設在工程科技領域對國家戰略決策具有重要影響力的科技智庫。當今世界，以數字化、網路化、智能化為特徵的信息化浪潮方興未艾，信息技術日新月異，全面融入社會生產生活，深刻改變著全球經濟格局、政治格局、安全格局，信息與電子工程科技已成為全球創新最活躍、應用最廣泛、輻射帶動作用最大的科技領域之一。為做好電子信息領域工程科技類發展戰略研究工作，創新體制機制，整合優勢資源，中國工程院、中央網信辦、工業和信息化部、中國電子科技集團加強合作，於2015年11月聯合成立了中國信息與電子工程科技發展戰略研究中心。 中國信息與電子工程科技發展戰略研究中心秉持高層次、開放式、前瞻陛的發展導向，圍繞電子信息工程科技發展中的全局性、綜合性、戰略性重要熱點課題開展理論研究、應用研究與政策諮詢工作，充分發揮中國工程院院士，國家部委、企事業單位和大學院所中各層面專家學者的智力優勢，努力在信息與電子工程科技領域建設一流的戰略思想庫，為國家有關決策提供科學、前瞻和及時的建議。

目錄

《中國電子信息工程科技發展研究》編寫說明
前言
第1章 全球發展態勢
1 1 應用光學
1 1 1 高精度非球面光學曲面製造技術不斷發展，大口徑非球面望遠鏡獲得應用
1 1 2 計算成像技術持續發展，技術體系不斷完善
1 1 3 壓縮採樣無透鏡全息成像和數字全息合成孔徑成像持續發展
1 1 4 高性能光譜儀器及核心元器件的需求不斷提高
1 1 5 裸眼三維光場顯示取得進展，仍需技術攻關
1 1 6 頭戴顯示技術繼續發展，新技術不斷產生
1 1 7 三維衍射層析技術從干涉向非干涉轉型，助力細胞「真實3D」成像
1 1 8 三維納米光刻技術朝著高精度、高速度不斷發展
1 1 9 空間碎片光學探測系統向立體化、網路化發展，覆蓋範圍不斷完善
1 1 10 超解析度成像技術持續發展，近場與遠場觀測解析度不斷提高
1 1 11 大動態範圍低照度微光成像技術取得突破，夜光遙感常態化
1 1 12 先進變形反射鏡需求日益迫切，元器件性能不斷提升
1 1 13 航天極端環境光纖力熱感測技術繼續發展，高性能、多參量極端環境光纖力熱感測不斷產生
1 1 14 光聲技術繼續發展，高性能、新類型光學麥克風不斷產生
1 2 激光技術
1 2 1 激光技術繼續發展，高性能、新類型激光器不斷產生
1 2 2 激光雷達芯片技術水平不斷提高，支撐自動駕駛應用
1 2 3 中長波半導體激光技術得到發展
1 2 4 新體制相干成像激光雷達技術發展迅猛
1 2 5 激光技術助力新一代信息產業轉型升級
1 2 6 衛星激光測距技術向高重複率、自動化無人值守發展
1 2 7 通信用半導體激光器芯片繼續發展
1 3 紅外技術
1 3 1 三代紅外探測器技術迅猛發展
1 3 2 雙色紅外探測器進一步發展
1 3 3 高性能三代紅外探測器得到應用
1 3 4 基於多模式成像技術的短波紅外相機需求持續增加
1 3 5 四代紅外探測器正在興起
1 3 6 紅外科技蓬勃發展，高性能的新型探測技術不斷產生
1 3 7 空間探測用低溫光學技術持續發展、空間紅外望遠鏡性能不斷提升
1 3 8 紅外成像技術走向成熟，新體制紅外器件不斷湧現
第2章 我國發展現狀
2 1 應用光學
2 1 1 高精度非球面光學曲面製造技術方面迎頭趕上，並得到應用
2 1 2 計算成像技術逐步完善，成像體系已完成建立
2 1 3 壓縮採樣無透鏡全息成像和數字全息合成孔徑成像得到突破
2 1 4 光場3D顯示方面得到技術突破與廣泛應用
2 1 5 核心器件開發促進國內高性能光譜儀器的快速發展
2 1 6 頭戴顯示技術與世界領先水平的差距不斷縮小
2 1 7 三維衍射成像快速發展
2 1 8 三維納米光刻技術與世界領先水平的差距不斷縮小
2 1 9 空間碎片光學探測逐漸得到重視
2 1 10 超解析度成像與世界領先水平的差距不斷縮小
2 1 11 超大動態範圍微光成像技術達到新高度
2 1 12 單元數最多的變形反射鏡研製成功
2 1 13 航天極端環境光纖力熱感測技術與世界領先水平的差距不斷縮小
2 1 14 光學麥克風方面與世界領先水平的差距不斷縮小
2 2 激光技術
2 2 1 激光雷達芯片技術成果顯著
2 2 2 激光器件方面不斷取得突破進展
2 2 3 中長波半導體激光技術水平已達到世界先進水平
2 2 4 干成像激光雷達成果顯著
2 2 5 我國激光光源技術異軍突起
2 2 6 激光顯示創新能力不斷增強，技術和產業進程國際領先
2 2 7 激光測距技術積極追趕世界領先水平
2 2 8 商用半導體激光器急需實現全過程國產化
2 3 紅外技術
2 3 1 三代紅外探測器技術進入實際裝備階段
2 3 2 雙色紅外探測器具備研製與生產能力
2 3 3 高性能三代紅外探測器獲得了較大技術突破
2 3 4 非製冷紅外探測器性能與國外主流產品基本持平
2 3 5 在紅外科學與技術領域取得新進展
2 3 6 低溫光學技術與世界領先水平的差距不斷縮小
2 3 7 膠體量子點紅外探測器整體起步較晚，近年來進展加速
第3章 我國未來展望
3 1 應用光學
3 1 1 大尺度精度比光學元件製造技術將進一步發展
3 1 2 計算成像理論與技術逐步完善
3 1 3 無透鏡全息成像和數字全息合成孔徑成像繼續深化研究
3 1 4 裸眼3D光場顯示逐步從行業應用走進百姓生活
3 1 5 多種技術融合提升頭戴顯示器性能，體全息衍射光波導技術是未來方向
3 1 6 高性能光譜分析儀器正朝智能化、小型化、高解析度和高穩定性的方向發展
3 1 7 三維衍射層析顯微儀器的工程化儀器研製進一步開展
3 1 8 光學極端三維納米光刻技術將進一步發展
3 1 9 空間碎片光學探測維度進一步擴展
3 1 10 進一步提高光學成像解析度，開展多種不同原理、不同方法超解析度成像技術研究
3 1 11 面向全天時遙感需求，弱光觀測能力將不斷加強
3 1 12
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